Ya están disponibles las bases para la convocatoria 2020 del Fondo para el Mejoramiento Integral de Museos (FMIM), que coordina la Subdirección Nacional de Museos (SNM), del Servicio Nacional del Patrimonio Cultural (SNPC).
La convocatoria a participar en el FMIM considera exclusivamente a los museos que no reciben financiamiento directo del Estado y que se encuentren adecuadamente inscritos en el Registro de Museos de Chile (RMC) al momento de postular. Lo anterior implica tener la totalidad de los datos solicitados en la ficha del RMC.
El programa cuenta con un presupuesto máximo de $1.156.000.000 y financiará iniciativas en dos categorías: equipamiento museográfico (equipamiento técnico especializado y mobiliario para museos, exceptuando equipamiento de oficinas) y puesta en valor de colecciones patrimoniales (inventario, documentación, conservación preventiva, embalaje, mobiliario para depósitos). El monto máximo por proyecto para equipamiento museográfico es de $45.000.000 y para colecciones, $25.000.000.
Del presupuesto total, $578.000.000 son para museos del sector público y $578.000.000 para instituciones del sector privado. La entrega de fondos se realizará en una única cuota, tanto a entidades públicas como privadas, conforme con el monto total debidamente asignado al término del procedimiento de selección.
Para proceder a la efectiva entrega de los recursos, se exigirá a las entidades privadas la entrega de una garantía de fiel, oportuno y cabal cumplimiento de las obligaciones y compromisos del convenio correspondiente. Esta no será exigible a las instituciones públicas que formen parte de la Administración del Estado, sean centralizadas o descentralizadas.
Se podrán efectuar consultas relativas a las bases hasta el 12 de marzo, al correo electrónico postulacion@fondomuseos.dibam.cl. Las postulaciones, en tanto, deben presentarse en soporte material en las oficinas de la Subdirección Nacional de Museos (Recoleta 683, Santiago) hasta el 17 de abril. La presentación de los proyectos debe regirse obligatoriamente por el orden y los formatos señalados en las bases.